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岛津(Shimadzu) Prominence UFLC System

浏览次数:22082
  • 价格 ¥280000.00
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    交易成功

  • 产品品牌岛津
  • 地      点 西青区
  • 仪器种类色谱
  • 仪器状态无故障正常运行
  • 仪器来源企业
  • 产品库存1
数量
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  • 商品名称:岛津(Shimadzu) Prominence UFLC System
  • 上架时间:2019-07-02 10:20:17
  • 仪器种类:色谱
  • 价格区间:50万以上
  • 年限:3年内
  • 仪器状态:无故障正常运行
  • 仪器来源:企业
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岛津(Shimadzu) Prominence UFLC System + DAD 二手仪器

岛津公司自1875年创业以来,始终继承创始人岛津源藏的创业宗旨“以科学技术向社会做贡献”,并以此为公司宗旨,不断钻研领先时代、满足社会需求的科学技术,为社会开发生产具有高附加值的产品。在分析测试仪器、医疗仪器、航空产业机械等领域,以光技术、 X 射线技术、图像处理技术这三大核心技术为基础不断推陈出新,满足更加广泛的市场需求,使岛津的高科技产品在全世界都享有很高的评价。如今,岛津公司又在生命科学、环境保护等领域里不断钻研新技术,开发新产品,为世界范围内的广大用户不断提供更多的具有划时代意义的产品

 LC-20ADXR高精度溶液输送单元

耐压:66MPa

输液方式:微冲程体积并联双柱塞

柱塞容量:10ul

流量设定范围:0.0001mL/min-10.0000mL/min

流量准确度:±1%或±2ul /min其中较大值以内 (0.01-3ml/min)

流量精密度:0.06% RSD 以下

脉动:0.08MPa以下

梯度混合方式:高压混合  

混合浓度精密度:0.15% RSD以下

标配柱塞自动清洗组件

 

SPD-M20A 高灵敏度二极管阵列检测器

光源:D2灯、W灯

二极管元件数:512

波长范围:190nm-800nm

谱带宽?缝隙宽:1.2nm(高分辨方式) 8nm(高灵敏度方式)

波长准确度:1nm以下

波长精密度:0.1nm以下

噪声:±0.3×10-5AU(指定条件下)

漂移:±0.25×10-3AU/h(指定条件下)

线性:2.0AU(ASTM规格) 

配备UFLCXR系统用半微量调温池

 

SIL-20AXR/20ACXR 超快速低污染自动进样器

耐压:66MPa

进样方式:全量进样,进样量可变式

进样量设定范围:0.1ul-50ul(标准),1ul -100ul(选购件)

试样处理数:

175(1mL试样瓶)

105(1.5mL试样瓶) ( SIL-20ACXR  70(1.5mL试样瓶))

50(4mL试样瓶)

192(96-孔MTP 2块)

768(384-孔MTP 2块)

在上述各规格外另可使用1.5mL试样瓶10个

进样量准确度:±1%以下

进样量精密度:0.3% RSD以下

交叉污染:0.005%以下

针清洗:在进样前后任意设定

试样冷却器: SIL-20AXR无; SIL-20ACXR模块冷却加热方式,兼除潮功能4℃-40℃

 

CTO-20A/20AC 柱温箱

调温方式:强制空气循环式

冷却方式:CTO-20A 无、CTO-20AC 电子冷却式

温度设定范围:4℃-85℃

温度控制精密度:0.1℃以下

温度控制范围:CTO-20A (室温+10)℃-85℃ 、CTO-20AC (室温-10)℃-85℃

可收容仪器:手动进样器2个,梯度混合器,高压流路切换阀2个等

定时程序:线性温度程序

安全措施:溶剂传感器、温度保险丝、上限温度限制

 

系统控制器CBM-20A 

具备数据中间转换功能,可在发生意外或通信错误时,保护重要的分析数据

起到将LC工作站或网络客户计算机通过Ethernet与分析装置连接的接口作用

即使不使用专用工作站,也可直接从IE浏览器控制装置

 

Shim-pack XR-ODSⅡ色谱柱填料规格

耐压:60MPa

基质:全多孔性球状高纯度硅胶

粒径:2.2 μm

孔径:8 nm

表面修飾:十八烷基

表面处理:端基封尾处理

含碳率:20.2 %

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岛津Prominence UFLCXR超快速高分离液相色谱仪在保证了重现性、低交叉污染、高灵敏度等卓越基本性能的同时,最大耐压达到66MPa。同时开始销售的Shim-pack XR-ODSⅡ色谱柱耐压达到60MPa,并且可使用长达150mm的超高分离用色谱柱,从而提供更为出色的分离效果。

专门的色谱方法转换软件,使常规色谱条件与UFLCXR条件双向转换简单易行,保证分析方法的通用性。 

可作为LC-MS/MSLCMS-IT-TOF的前端装置,进行超快速高分离度分析。

35-Shimadzu Prominence UFLC System + DAD.jpg


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